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    产品中心 PRODUCT

      公司以自主研发的离子源技术、等离子体源技术及高电压技术、自动控制技术、真空技术,先后开发了多种类型的材料表面处理设备及相关工艺,已广泛应用于机械加工、半导体、石油钻井、航空航天及生物医学领域,以国内领先的技术与产品性能获得用户的极高评。

    等离子源

      各式等离子源包括,低能离子源、阳极层离子源、矩形气体离子源、矩形射频离子源等


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      各式等离子源包括,低能离子源、阳极层离子源、矩形气体离子源、矩形射频离子源等


        

    低能离子源      MEVV金属离子源    矩形气体离子源

       

    小多弧     直流磁过滤弧源      平面磁控溅射靶

      

    高能气体离子源      脉冲磁过滤弧源        阳极层离子源

     

    矩形射频离子源    圆形霍尔离子源

    柱状多弧/磁控溅射靶

    技术参数:

     

     

           技术指标

     

    名称

    束斑(mm

    能量(kev

    束流

    离子密度

    主要用途

    低能辅助离子源

    Φ80-120

    0.1-2

    0-100mA

     

    离子束清洗、沉积

    低能溅射离子源

    Φ50

    1-4

    0-100mA

     

    离子束溅射

    阳极层离子源

    100-2000

    0.2-2

    0.1-5A

     

    在线离子束清洗、活化、沉积

    高能汽车离子源

    Φ100-150

    30-80

    0-10 mA

     

    离子注入

    高能金属离子源

    Φ100-500

    30-80

    0-10 mA

     

    离子注入

    射频等离子体源

    Φ200-300

    0.01

     

    109-10

    离子注入、活化、沉积

    脉冲磁过滤弧源

    Φ100-200

    0.04

    0.1-1A

     

    离子注入、沉积

    直流磁过滤弧源

    Φ100-200

    0.04

    0.5-3A

     

    离子束沉积

    技术指标不局限与所列参数,可根据用户需求定制


    适合团队网上赚钱项目 110| 750| 338| 256| 950| 740| 567| 712| 993| 308| 201| 321| 57| 470| 528| 718| 553| 937| 619| 41| 177| 441| 994| 969| 40| 337| 605| 646| 592| 798| 715| 21| 458| 635| 684| 93| 691| 554| 194| 288| 766|